描述

JSIR340-4型經(jīng)濟實惠的紅外輻射源專為NDIR氣體分析和其他紅外測量應用而優(yōu)化，如直接紅外光譜法、衰減全反射光譜法或光聲光譜法?；贑MOS的紅外輻射源的膜片可達到高達800°C的溫度。它能夠為工業(yè)應用提供長期穩(wěn)定的輻射輸出，用于在環(huán)境溫度為-20至85°C之間控制和監(jiān)測過程氣體及相關氣體。帶有標準TO封裝和蓋子的包裝版本適合測量距離長達2厘米。

我們紅外輻射源中使用的MEMS芯片包含一個多層熱板膜片，內(nèi)含一個高溫穩(wěn)定的金屬CMOSI層。發(fā)射器芯片的有效面積為2.2 x 2.2平方毫米，基于硅襯底并采用背刻蝕膜技術。所有薄膜工藝均采用標準MEMS工藝和CMOS兼容材料完成?；钚訡-MOSI電阻層免受老化和環(huán)境影響。

應用

lNDIR氣體檢測

l衰減全反射光譜法

l直接紅外光譜法

l光聲光譜法

目標氣體

l二氧化碳、一氧化碳、一氧化二氮、氨氣、二氧化硫、六氟化硫以及成熟氣體如乙烯(C2H4)和乙炔(C2H2)

特點

l由于芯片膜片的低熱質量，時間常數(shù)為11毫秒

l高膜片溫度高達770°C，有效芯片面積為2.2 x 2.2平方毫米

l長期穩(wěn)定的芯片結構

l光譜帶寬從2到15微米

lCMOSI芯片技術

技術參數(shù)

1. 在額定功率下

2. 25°C - 770°C

3. 在通電狀態(tài)下

4. 帶有18Ω熱電阻

5. 環(huán)境溫度為25°C時

6. 連續(xù)模式下，平均排除故障時間（膜片破裂）為63%，計算值基于阿倫尼烏斯方程

7. 通過紅外相機測量（0.7 - 1.1微米），熱點溫度降低10%的平均溫度分布

8. 包括環(huán)境溫度

典型操作特性

電氣示意圖

電路

等效電路圖

機械制圖

底部

截面圖